高溫恒溫循環(huán)槽（60℃～200℃）

產(chǎn)品特點(diǎn)

> 采用PID溫度控制技術(shù)，恒溫波動(dòng)度±0.1℃；

> 加熱管和制冷盤管均采用不銹鋼材質(zhì)，易清洗；

> 細(xì)膩的隔熱和保溫設(shè)計(jì)，確保設(shè)備在+300℃運(yùn)行時(shí)，儀器表面溫度不會(huì)太高，保證操作安全；

> 低噪音設(shè)計(jì)，免除實(shí)驗(yàn)室噪音難題；

> 設(shè)備操作簡(jiǎn)單，自動(dòng)和手動(dòng)2種模式，操作更方便；

> 工作溫度范圍內(nèi)的過(guò)溫安全保護(hù)功能，保護(hù)實(shí)驗(yàn)安全；

> 具有斷電記憶功能；

> 具有機(jī)械限溫和超溫保護(hù)，雙重保護(hù)，使用更放心；

> 適合內(nèi)部和外循環(huán)應(yīng)用，應(yīng)用范圍廣；

> 9點(diǎn)溫度校準(zhǔn)和單點(diǎn)溫度校準(zhǔn)，溫度數(shù)據(jù)更可靠；

> 品牌壓縮機(jī)，制冷效率高；

> 相關(guān)配件采用，性能穩(wěn)定且壽命長(zhǎng)；

> 全封閉特種磁力泵/渦旋泵循環(huán)攪拌，溫場(chǎng)均勻；

> 具備傳感器開路、短路保護(hù)、ADC初始化檢測(cè)等，安全防護(hù)更全面；

應(yīng)用范圍

> 材料老化測(cè)試

> 化學(xué)設(shè)備熱源的溫度控制

> 半導(dǎo)體設(shè)備的溫度控制

> 高壓反應(yīng)釜?jiǎng)討B(tài)溫度控制

> 雙層玻璃反應(yīng)釜?jiǎng)討B(tài)溫度控制

> 雙層反應(yīng)釜?jiǎng)討B(tài)溫度控制

> 微通道反應(yīng)器溫度控制

> 蒸餾系統(tǒng)控溫

> 化工、制藥、電子等領(lǐng)域工藝控制

> 高溫消毒，高溫蒸餾，高溫測(cè)量與檢定等

技術(shù)參數(shù)

高溫恒溫循環(huán)槽（60℃～200℃）

備注：1.控溫范圍和介質(zhì)粘度有關(guān)，粘度越大，起始溫度越高；

2.高溫恒溫循環(huán)槽所有技術(shù)參數(shù)均為標(biāo)準(zhǔn)配置參數(shù)，溫度波動(dòng)度、壓力、流量、加熱功率等采納數(shù)有特別要求，可以根據(jù)實(shí)際的需求做非標(biāo)定制化處理。